真空氣氛爐工作原理和工藝處理介紹

　　真空氣氛爐可應用于電子元器件、新型材料及粉體材料的真空或氣氛條件下的熱處理工藝。也用于冶金、機械、輕工、商檢、高等院校及科研部門、工礦企業(yè)電子陶瓷產(chǎn)品的預燒、燒結、釬焊等工藝。
 

　　工作原理：
 

　　真空氣氛爐是一種將真空技術與熱處理技術相結合的新型熱處理技術，與常規(guī)熱處理相比，真空熱處理的同時，可實現(xiàn)無氧化、無脫碳、無滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達到表面光亮凈化的效果。其工作原理是把物體在通入一定氣體的爐膛內(nèi)進行燒結的方法進行。
 

　　工藝處理：
 

　　真空熱處理是指熱處理工藝的全部和部分在真空狀態(tài)下進行的，其中包括低真空、中等真空、高真空和超高真空等，真空熱處理可以實現(xiàn)幾乎所有的常規(guī)熱處理所能涉及的熱處理工藝，但熱處理質(zhì)量大大提高，實際上真空熱處理也是屬于氣氛控制熱處理范疇。
 

　　對于真空氣氛爐來說由于其氣氛的形式有很多種，因此需根據(jù)物料的特性來選擇合適的氣氛形式，例如透明氧化鋁陶瓷可用氫氣氛燒結，透明鐵電陶瓷宜用氧氣氛燒結，氮化物陶瓷如氮化鋁等宜用氮氣氛燒結。有時為保護燒結調(diào)協(xié)也須在保護氣氛中操作。如鉬絲爐宜通氫，鎢絲爐宜在真空條件下工作。